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溅射离子束辅助沉积和离子束溅射的区别
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-28 17:50:21616 -
离子减薄速度
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-28 06:00:21379 -
离子束溅射和离子束辅助沉积的区别是什么
纳瑞科技（北京）有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。离子束溅射和离子束辅助沉积...
2024-03-27 05:06:18355 -
离子束溅射的形成和预防
离子束溅射(ionbeamsputtering,IBS)是一种在单质或化合物表面沉积金属或半导体材料的技术。离子束溅射可以用于制备复杂的半导体器件,如晶体管、太阳能电池和发光二极管等。话说回来,离子束...
2024-03-26 04:44:21397 -
聚焦离子束切割深度是多少
fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子束切割（IonBeamMelting，IBM）是一种用于金属离子束切割的技术，其切割深度取决于多种因素，如离子束功率、聚焦...
2024-03-25 13:34:18321 -
离子溅射刻蚀
fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子溅射刻蚀（IonBeamMelting，IBM）是一种用于制备高质量金属薄膜的先进技术。离子溅射刻蚀通过将一个金属离子束射...
2024-03-25 03:56:22340 -
离子镀膜工艺流程
fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子镀膜工艺是一种用于制备高质量膜材料的重要技术，广泛应用于电子、光学和航空航天等领域。本文将介绍离子镀膜工艺的基本原理、工艺...
2024-03-24 22:28:22251 -
离子束镀膜原理
离子束镀膜（IonBeamSputtering,IBS）是一种在气相中进行的物理气相沉积技术。在这种技术中，高能离子束射向靶材，将其表面上的原子溅出并沉积在离子束路径上的固体表面上，形成所需的镀层。离...
2024-03-23 00:48:25256 -
离子束溅射和离子束辅助沉积相比
fib芯片提供维修、系统安装、技术升级换代、系统耗材，以及应用开发和培训。离子束溅射（ionbeamsputtering，IBS）和离子束辅助沉积（ionbeam-assistedsputtering...
2024-03-22 20:50:26320 -
离子束溅射镀膜原理
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-22 12:58:20269
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